10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。

  据介绍，佳能的纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）技术可实现最小线nm的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。此外，随着掩模技术的进一步改善，NIL有望实现最小线nm的电路图案，相当于2nm节点。

  半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负着以低成本制成尖端微细电路的使命。

  铠侠、佳能和大日本印刷等公司是该技术路径的主要推动者，正合力研发，规划在2025年将该技术实用化。日经新闻网此前称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量。

  目前唯一可靠的制造5纳米及以下芯片的方法（EUV机器）因为贸易制裁禁止进入中国。而日本公司的技术则完全省略了光刻过程，而是直接将所需的电路图案压印到硅片上。由于其创新性，它不太可能被现有的贸易限制所禁止。

  资料显示，纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理。简单来说，传统的光刻设备通过将电路图案投影到涂有抗蚀剂的晶圆上来转移电路图案，而纳米压印光刻造芯片则通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上，就像印章盖在橡皮泥上，然后经过脱模就能获得一颗芯片。

  官方消息显示，佳能早在2004年开始秘密研发NIL技术，2014年美国分子压印公司（现佳能纳米技术）加入佳能集团，该研发消息才被公开。2021年春季，大日本印刷在根据设备的规格进行了内部模拟，发现在电路形成过程中每个晶片的功耗能够更好的降低到使用EUV曝光时的大约1/10，根据大日本印刷的说法，NIL量产技术电路微缩程度则可达5nm节点。2017年7月，佳能纳米压印半导体制造设备“FPA-1200NZ2C”设备交付给东芝存储器四日市工厂。

  从应用范围来看，纳米压印技术的适用场景十分普遍，包括集成电路、存储、光学、生命科学、能源、环保、国防等领域。

  在佳能研发人员首藤真一看来，这种纳米压印设备是一种将创造未来的设备。未来，半导体会变得更精细，不仅会被封装在智能手机中，未来还会被用作贴纸，比如贴在人体皮肤上或隐形眼镜上。他相信只有纳米压印方式才能以客户真正的需求的成本和速度实现这一点。

  其中在芯片领域，纳米压印光刻不仅擅长制造各种集成电路，更擅长制造3D NAND、DRAM 等存储芯片，与微处理器等逻辑电路相比，存储制造商具有严格的成本限制，且对缺陷要求放宽，纳米压印光刻技术与之非常契合。

  据DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引进佳能纳米压印设备，正在来测试与研发，目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。

  国内已有多家上市公司积极布局该技术，这一些企业集中在消费电子行业，近期在互动易平台回复纳米压印相关业务的上市公司包括美迪凯、利和兴、水晶光电、汇创达、歌尔股份、苏大维格等。

  下一篇：纳米压印光刻机能绕过制裁吗；台积电获美国豁免；高通又裁了丨一周速览

  1月13日下午消息，网传佳能公司发出公告珠海公司因疫情原因关闭工厂终止生产。新浪数码讯问佳能公司，对方暂未回复。经南方都市报向珠海高新区求证，确认在珠海发展32年的佳能珠海工厂已停产。 根据公开资料，佳能珠海有限公司成立于1990年1月15日，产品最重要的包含镜头、数码相机、彩色激光打印机、扫描仪、传真机等。 公告如下： 全体员工： 佳能珠海有限公司（以下简称“公司”）自成立以来，在地方政府全力支持下，更依靠全体员工长期以来的辛劳付出和积极贡献。得以持续经营32年。但正如各位所知，因近年来全球照相机市场急剧萎缩，及新冠肺炎病毒长期肆虐，公司经营面临空前困难，虽经公司及各位员工一起努力，却依然未能扭转困局，总部不得不

  公司珠海工厂发出公告因疫情关闭工厂终止生产 /

  来自CR的一手消息，佳能近日在日本公布了一项新的传感器专利。据专利描述文件显示，这是一款采用背照式结构的CMOS传感器，并采用佳能标志性的DPAF技术。目前，在索尼的推广之下，背照式CMOS已成为无反相机和智能手机最常使用的传感器类型之一。希望佳能在传感器方面的技术升级能够弥补其和索尼的差距。

  公布新款背照式DPAF传感器专利 /

  十二年不忘初心，让感动常在，佳能（中国）发布2020-2021企业社会责任报告 2021年9月22日，佳能（中国）有限公司（以下简称“佳能”）发布《佳能（中国）2020-2021企业社会责任报告》（以下简称《报告》）。本次《报告》分为“坚守”“共生”“创新”三部分，以佳能“感动常在”的企业文化战略为核心，将佳能企业经营与在中国经济、环境和社会等方面的发展有机结合，对佳能在中国大陆地区企业社会责任工作成果进行了总结。截至目前，佳能已系统性地连续十二年对可持续发展的相关工作成果开展梳理、评估和报告工作。 《佳能（中国）2020-2021企业社会责任报告》 封面故事，幸福影像被一一定格 随国家实施精准扶贫战略，为基层

  （中国）发布2020-2021企业社会责任报告 /

  2012年9月18日，德克萨斯州奥斯汀讯－飞思卡尔半导体 (NYSE: FSL) 的QorIQ P1022处理器如今为Synology的DiskStation DS413网络存储服务器（NAS）提供动力。该服务器曾在Computex 2012上荣获“Best Choice Award” 。QorIQ P1022旨在为Synology DS413之类的网络应用提供双核性能以及创新、无丢包的能源管理功能。 Synology DS413是一个4-bay（四盘位）NAS服务器，为小企业和小型办公室/家庭办公室（SOHO）用户更好的提供安全、高密度、集中式的文件存储解决方案。凭借P1022处理器突破性的无丢包、低功耗性能，DS413提供领

  来自Canon Rumors的一手消息，佳能即将推出的新款单反机型将支持4K无裁切录制。具体来看，佳能将在今夏发布一款全新单反（从谍报来看基本确定是EOS 90D），新机将会配备高达3250万像素的APS-C画幅传感器，同时将支持无裁切4K视频拍摄。 之前有谍报表示佳能将整合80D与7D2两个机型，合二为一 对于喜爱用单反拍视频的玩家而言，4K无裁切可以说是最理想的方案，可避开转换系数的问题，用广角镜头录制会更便利。不过，佳能现有支持4K的机型（包括EOS R、5D4、M50等等）基本都是点对点采样，也是通过截取传感器上的一部分来完成4K拍摄，因此在录制视频时普遍需要将实际焦段乘以转换系数（大约是1.7）。想想看，

  EOS 90D谍报：配高达3250万APS-C，支持无裁切4K /

  佳能提出改善高密度 传感器 佳能在近日公开的一份专利中，提出了一种在传感器内层镜片和光电二极管之间嵌入高折射层的新技术。新技术利用高折射层自身特性，提高传感器的光线收集能力和相位差检测对焦速度。 ▲现有传感器内的光电二极管无法收集透光间隙外的光线 由于现有的背照式CMOS传感器在微透镜和光电二极管之间只有一层低折射层，光电二极管无法收集遮光层间隙以外的光线，而且随着像素密度的增加，遮光层的透光间隙宽度也会随之减小，极度影响传感器的光线收集能力和相位差检测对焦速度。 ▲新传感器技术原理 一般微透镜折射率为1.6，低折射层的折射率为1.45，佳能此项新技术使用的高折射层的折射率达到了2.3。新技术通过在内层镜片

  苹果于这周发布了Mac OS X系统下的佳能打印机驱动的更新Canon Printer Drivers 2.6版本。更新包括对佳能打印机和扫描仪的支持，适用于Mac OS X 10.6或雪豹系统。 这一更新版本的文件大小为307.39MB，系统要求Mac OS X 10.6.1或以上，均支持简体和繁体中文。用户可从“软件更新”下载最新的佳能打印机驱动更新，或者直接到苹果网站查找Canon Printer Drivers v2.6 for Mac OS X v10.6。

  2019 年 10 月 -12 月期间的 FPD 曝光设备的出货数量中，佳能、尼康两家主流 FPD 设备企业出货 16 台，连续 2 期跌破 20 台。因此，2019 年整年的出货数量，两家公司合计为 90 台，停滞在了 2018 年的 60% （2018 年出货数量为 142 台），两年持续低于上年实绩。这是由于受到了 FPD 厂家的设备投资减速（Slow Down）的影响。 （图片出自：limo） - 1 - 佳能和尼康占领全球市场 FPD 曝光设备应用于在玻璃基板上形成薄膜晶体管（Thin Film Transistor，TFT），用来驱动液晶显示屏、有机 EL 显示屏的像素。在刻画 TFT 线路图案的原版光掩膜

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