财联社10月13日电，日本佳能公司10月13日宣告推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制作设备，该设备履行电路图画搬运，这是最重要的半导体制作工艺。据佳能介绍，传统的光刻设备通过将电路图画投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，而新产品通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图画的掩模来完成这一点，就像邮票相同。因为其电路图画搬运进程不通过光学组织，因而能在晶圆上忠实地再现掩模上的精密电路图画。