这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎样不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？

  而这，差评君就必须先帮佳能找补几句了，其实一向以来，佳能在芯片制作设备上都有布局，近邻的尼康也是一个样。

  不过现在光刻机的顶尖技能一向都被 ASML 独占，佳能眼看追不上，所以在研讨光刻机的一起，又找了别的一条赛道：纳米压印。

  src=这次新闻的主角，也正是这个 纳米压印 技能，横竖音讯一出，吃瓜大众们的反应是最炽热的。

  像是什么光刻机即将被代替，纳米压印战未来 ASML 这下要慌了，被换赛道超车了 。。。各种评论看得人一片欢腾，如同光刻机这玩意儿，今后只能在废品收回站里看到了似的。

  src=首要这些年来，光刻机的开展现已逐步走到一个瓶颈期，芯片制程的前进速度，也肉眼可见得变慢。

  没有比照就没有损伤，反观开展至今才二十多年的纳米压印技能，却是一个 快 字了得，噌噌几年就快要赶上光刻机的进度了。

  并且，新的纳米压印技能和光刻机比较，不光本钱也降了，乃至制作工艺也贼简略，更适合大规模出产。

  src=这么说吧，用光刻技能造芯片，总本钱要是十块，光刻技能就得花三块，时刻本钱也占到总本钱的一半。

  比照之下，用纳米压印技能能省掉将近三成的本钱，要是晶圆吞吐量再提高一点，直接就能节约一大半的本钱。

  src=更重要的是，纳米压印技能的工艺分外的简略，跟盖章相同，像下图这种印章各位差友们应该都见过或许玩过吧。

  然后再在晶片上喷涂一层纳米压印胶，直接盖章、等候凝结、脱模就 OK 了。

  src=在造印章、盖章的过程中，都不必替换东西，一个 喷头 就能搞定，期间只需换掉里边的资料。

  而近邻需求折来折去的 EUV 光刻技能，不只要一个巨大的透镜阵列来操控光线，并且要发生这个波长极短的极紫外光，还得大功率支撑着。

  src=这样比照之下，纳米压印技能简直是集能耗小、工艺简略、设备简便等长处于一身，不少人都以为这会是最大有或许代替 EUV 光刻的技能。

  src=并且现在，纳米压印技能也已开展出了不少分支，光是压印方法就有三种：热压印、紫外压印和微触摸压印，其间紫外压印常用在芯片制作中，在紫外光的照射下，压印胶很简单凝结脱模。

  这些工艺，除了造芯片之外，还能用在 LED 、 OLED 、 AR 设备中。

  从 2004 年开端，上面咱们说到的佳能，就开端悄然研讨起了纳米压印。2014 年它收买了美国的一家纳米压印公司 Molecular Imprints （ 分子压模 ），正式揭露宣告进入纳米压印商场。

  src=后来，它还和东芝（ 现在的铠侠 ）协作，预备用纳米压印技能造 3D NAND 闪存，三星在买 EUV 设备的一起，也还在着手进行纳米压印技能的研制。

  就连 SK 海力士也从佳能那儿买了纳米压印设备，预备搞 3D NAND 闪存出产测验，并计划在 2025 年完成大规模量产。

  src=到时候，用纳米压印技能造 DRAM 、 CPU 等芯片天然也就不远了。

  在国内，纳米压印的商场也是开展得炽热，不少高校像复旦、北大等都有相关的研讨。前几天佳能官宣自家的纳米压印设备之后，还顺带拉动了国内相关概念股，汇创达盘中一度涨超 14% 。

  或许未来有一天，光刻机也会迎来这样的人物改变，到时候，说不定芯片制作业，已完成了新一轮的改造。